1、其中，上海微电子装备有限公司已经量产的是90纳米，这是在中国最领先的技术其国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项“的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术；据悉，这是世界上首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备，能够实现22nm光刻工艺而上海微电子2016年实现90nm光刻机突破，并持续向65nm45nm甚至22nm制程推进其也在4月也宣布实现了22nm光刻机的研发突破，但细节方面没过；综上所述，利用现代工艺，在使用90纳米光刻机的情况下，我们可以做出90纳米45纳米28纳米的手机芯片这几种芯片完全涵盖智能手机的范围，不会回到大哥大时代另外，上海微电子已经完成28纳米光刻机的突破，将于明年20；而且西方国家对我国的技术打压是非常狠的，比如2009年的时候，中国上海微电子研发出90纳米的光刻机，在2010年西方国家就解除了90纳米以上的光刻机对中国出口的限制，2015年又解除了65纳米光刻机对中国出口的限制，让中国的；就算现在开始招人做光刻机，没有上十年的时间和百亿级别的投入，是很难看到成果的更何况我们国家已经有可以生产光刻机的企业，比如上海微电子已经造出了90nm的光刻机，虽然和台积电的5nm相比差距还有20年，但好歹也有一。

2、目前我国唯一能生产光刻机的公司是上海微电子SMEE，占据了中国80%的市场份额但即便是中国最先进的光刻机厂商，也仅仅是能90nm的光刻机而这个牛逼的阿斯麦ASML公司，已经可以生产7nm，甚至是5nm的EUV光刻机了，差距真不是一代两；中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己；生产光刻机上市公司ABM上海微电子装备有限公司佳能尼康1ABM ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷San Jose主要经营光罩对准曝光机光刻机，单独曝光系统，光强仪探针公司的主要市场在美国和亚洲ABM总部。

3、不好用，上海微电子最先进的SSA600系列光刻机只能用于90nm制程的芯片制造并且，上海微电子的光刻机的实际出货情况也并不理想；一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA80010W光刻机。

4、以光刻机为例，我国光刻机的最高水平是上海微电子的90nm制程，世界顶尖的光刻机是ASML的7nm EUV光刻机，ASM已经开始研制5nm制程的光刻机，差距一目了然此外，还有沉淀CMP匀胶显影离子注入等等设备，国内都和国外水平有差距；中国 科技 发展公司也数次求之不得光刻技术是芯片制造更为重要的机器设备之一现阶段，ASML垄断掉了全球的高端光刻机我国长期以来都想把握光刻技术技术性，可是上海微电子历经2017年的勤奋，才造出来90nm的光刻技术；目前全世界光刻机最好的也只有荷兰的ASML公司能够制造出来，虽然我国的光刻机精度不是很高，但却是一个必须存在的东西如果按照目前的科技水平来看，90nm的精度并不能做什么，就算是用90nm光刻机制作出来的芯片在一些性能。

5、上海微电子目前已经量产最先进的SSA60020系列光刻机，依旧采用的是193nm ArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额而根据国内官方媒体最新报道。

6、1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻机 上海微电子SMEE的光刻机为90nm制程 ，差距还是有些远的正是上海微电子90nm制程的光刻机下线之后，ASML；上海微电子装备股份有限公司SMEE通过积极研发已实现 90nm 节点光刻机的量产，使用ArF光源，可满足90nm及以上制程国产光刻机正向下一个技术节点寻求突破4产业链 光刻机产业链主要包括上游核心组件及配套设备中游光。