中国光刻机能产几纳米最新成果展示 据近日消息，中国光刻机取得了重大突破，在芯片制造工艺中实现了更高层次的精度目前，中国光刻机已经实现了可以生产7纳米线宽的水平，并在分辨率和可制造性等方面取得了显著的进步这。

摘要光刻机是制造芯片的关键设备，是世界上最复杂的精密设备之一，也是工时和成本占比最高的设备，更是全球顶尖技术和人类智慧的结晶，目前世界上只有3个国家有能力制造出光刻机，我国就是其中一个那么，中国光刻机现在。

75台国产光刻机产品应用主要其中在半导体后道封装LED面板等领域，2020年中国光刻机产量为62台，2021年国内产量为75台光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的。

我国的光刻机处于世界的先进水平，但没有达到顶尖水平我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机，可以满足日常的射频芯片，蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准但是相较于芬兰等欧美国家的光刻机芯片，已经。

对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法实现，毕竟我国在光刻机这一步起步要远远晚于国外并且很多技术都已经被国外垄断，我国只能够自主进行设计，期待有一天能够实现弯道超车我国芯片水平难以前进，这与人才有关。

而这些基本上都是禁止对我们国家出口，因此我国光刻机技术受到限制前段事件美国制裁华为，不允许世界上任何一个国家给华为提供技术，华为虽然可以设计芯片，但是设计芯片的高端软件还主要依赖于海外。

现在中芯可以做到28纳米，也是现在的主流机器，订单已经排期几年了，现在14纳米的也已经成功下线了，由于良品率太低，现在正在调试，明年肯定能批量生产了，然而这还不是我国最先进光刻，清华大学的双工台4nm光刻机早就完成。

为7纳米芯片生产线供应刻蚀机中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额中科院SP超分辨光刻机 提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国。

中国光刻机距离世界先进水平，还有较大的差距第一，目前全球最先进的光刻机，已经实现5nm的目标这是荷兰ASML实现的而ASML也不是自己一家就能够完成，而是国际合作才能实现的其中，制造光源的设备来自美国公司镜片。