然而，由于ASML公司的EUV光刻机使用了大量美国的元器件和技术，就不得不遵守美国的商业法律，不能将EUV光刻机卖给我国企业但是，EUV光刻机又是制造高端芯片的核心设备，高端“中国芯”该如何突破重围呢芯片禁令落地之后；在光刻机领域，来自北京的科益虹源联合中科院华为一起已经突破了光刻机核心技术“激光源” ，这一技术是制造5纳米芯片的关键技术，由此来看高端光刻机或许已经离我们不远了总结随着我国在5G6G技术上的巨大成就。

目前我国实验室最先进的光刻机为22nm，而asml的光刻机已经达到5nm量产的水平因此，目前我国光刻机水平无法动摇其地位若日后我国光刻技术突破，而asml仍旧无法找到更先进制程的方法，那么将会威胁其发展但一般而言这很。

中国光刻机 突破

1、很多人将关注的焦点放在了手机和PC的芯片，忽略了大多数的芯片其实不需要很先进的制程，不是制程先进不好而是成本更加的重要，比如很多IoT芯片，14nm对于多数行业已经够了高端光刻机所实现更小nm级别的制程，主要应用在对。

2、其实光刻机的作用就是制造芯片，就是这样一个不被人所熟知的设备能够占到芯片制造成本的35%以上，虽说这个机器的原理看起来很简单，但它的功能是十分重要的当芯片结束了IC设计后就要被送到晶圆代工厂进行制造封装，比较有。

3、因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机确定不是“口嗨”首先 ，华为从来没有说过自己要做光刻机有关华为做光刻机的传闻是因为华为招聘光刻机工艺工程师引起的 但是大部分人可能。

我国光刻机有重大突破

不过，如今我国的最高学府，清华大学正在深入研究EUV光源问题，研究出的SSMB光源的潜在应用之一，便是作为为EUV光刻机的光源，一旦这一展望能够实现，便意味着我国有望解决自主研发光刻机之中最核心的光源问题 除了在核心问题上取得突破外。

在自主造芯的浪潮下，国产芯片近两年取得了突飞猛进的发展，中低端芯片的产能良品率都得到了大幅提升遗憾的是， 我们的高端芯片制程突破之路却因为EUV设备的缺失而陷入了瓶颈众所周知，EUV光刻机是高端芯片制造不可。