5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术；实际上中国能制造光刻机，只是不能制造先进光刻机在2021年的时候，中国就有企业宣布制造出了能生产24nm芯片的光刻机这个水平放到国际上大概是2013年到2015年的水平，而在2021年时国际领先水平是5nm芯片单论先进光刻。

最主要的原因还是因为它的商用遥遥无期碳基芯片现在还是停留在实验室阶段，想要完全商用最起码要二十年以上，这就注定了它和现在主流的硅基芯片没有任何的竞争力同理就算中科院的论文讲的是5nm光刻机技术，想要完全实现；如果美国不批，基本上就没可能了即便台积电没有使用美国的技术，也不可能第二台积电不可能跳过美国的原因是，荷兰的光刻机同样的，中芯国际就差光刻机就有能力生产7nm的芯片，在7nm的芯片上再在一年时间年达到5nm。

5nmeuv光刻机

5nm是EUV极紫外线光刻机能实现的目前最先进芯片制程工艺，也是智能手机厂商争抢的宣传卖点，进入2020年下半年后，苹果A14麒麟9000骁龙888等5nm工艺芯片相继粉墨登场然而，公开的信息显示，无论A14麒麟9000，还是。

而光刻工艺又是生产流程中最关键的一步，所以光刻机又是芯片生产中不可缺少的设备，总得来说光刻机是用来制造芯片的5nm是指处理器的制程工艺补充晶体管之间的距离，距离越小晶体管就越多，所以性能就越好。

毫无疑问，180nm还处于比较落后的状态，这也是国产芯片迟迟无法崛起的主要原因光刻技术作为光刻机的核心动力，我们国内肯定不会轻易放弃，现在是180nm不代表以后也是180nm，现在无法突破到5nm也不代表以后突破不了所以说。

不用光刻机制造5nm芯片的方法包括采用纳米压印设备使用中芯国际的N+1代工艺用碳纳米管来代替硅晶管用电子束光刻技术用量子芯片1采用纳米压印设备利用纳米压印设备将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上，制造出。

5nm芯片光刻机多少钱

10纳米的芯片没有5纳米的制作工艺复杂芯片分为设计制作封装测试，其中最难的就是制作，芯片光刻的难度好比是在一粒大米上雕刻清明上河图，而且还是在运动过程中雕刻而且要使用先进的设备光刻机10纳米芯片普通光刻。

现在中国微电子5nm刻蚀机已开始成为台积电5nm的生产线提供设备支持，这意味着家用半导体设备正在不断改进，而台积电的认可足以证明ChinaMicro半导体的实力，现在刻蚀机取得了重大进展，国产光刻机会远远落后吗相信在许多国内公司。