1、虽然中国当时在光刻机领域拥有着不错的技术水平，但是大部分企业在光刻机领域都无法赚得收入和利润，这导致很多企业逐渐放弃了光刻机的生产和研发，正是由于很多企业不看好光刻机的生产，所以才导致中国在光刻机领域出现了；我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法；中国的刻蚀机的确是达到了世界先进水平，光刻机还早，而且就算是这两样都世界先进了，不代表中国芯片业的前路就不艰辛了目前中国的刻蚀机的确领先，5纳米等离子体刻蚀机已经通过台积电验证但是光刻机就差多了，之前新闻。

2、中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020；在进口贸易方面，数据显示，20172020年，我国光刻机进口数量和进口金额均先将后升2020年，进口数量为239台，进口金额为1855亿美元2021年17月，进口数量和金额分别为248台67亿美元，均超过了2020年全年水平从。

3、导致中国光刻机的起步晚资金投入少人才也相对不足，这些都是需要解决的问题除非由国家牵头并且进行人才资源的相关倾斜，否则国产光刻机最多也就能达到中端水平，基本上不具备追赶上ASML公司的可能性。

4、我国的光刻机处于世界的先进水平，但没有达到顶尖水平我国的光刻机发展已经近到了28纳米的光刻机，可以满足日常的射频芯片，蓝牙芯片以及其他电器中的一些芯片的要求和标准但是相较于芬兰等欧美国家的光刻机芯片，已经。