说到光刻机，那就是国人的痛处，毕竟被卡脖子的感觉真的太难受了，其实我们在半导体领域被卡脖子的不只是光刻机，半导体产业链里面，我们能够自主掌握技术的不到一半，还有一半要靠外国的先进设备和技术做支撑，认为只要突破。

然而，制造出最顶尖的光刻机需要突破多项技术难题，涉及到整个光学领域的绝大多数技术中国需要在这些技术中得到突破，才能以一个国家的科技实力对抗整个西方社会许多人想知道中国什么时候能造出最顶尖的光刻机然而，这个。

为7纳米芯片生产线供应刻蚀机中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额中科院SP超分辨光刻机 提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国。

”现在，苹果依然把中国作为最重要的生产基地综上所述，未来的竞争说到底还是人才的竞争，是数学物理化学等基础科学的竞争显而易见，中国光刻机明年不可能达到世界先进的水平，但谁能说得清楚下一个5年10年就。

我们中国现如今可以量产的光刻机才发展到90nm，距离国际水平我们还是有很长的路要走的但相信在不久的将来，我们国家也能研制出属于我们自己的光刻机到那个时候我们就不需要受到外国人的制裁了，因为我们就能制造出芯片。

20年应该可以达到先进水平，但要想超越，还需要很长的一段路要走。

2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22纳米，结合双重曝光技术后，未来还可用于制造10纳米级别的芯片，荷兰的阿斯麦ASML作为。

水平不高 但不空白 坚持研发 踏实前进 一步一步 后来居上 故，最终赶超一流 #凌远长著# 上海微电子光刻机在全球属于什么水平？上海微电子光刻机在国内是最先进的光刻机研发制造企业，其前道光刻机能够实现90nm制程，在国内市场份额超。