光刻机本身就是综合了物理数学化学等诸多领域的高精尖领域，里面本身采用的光源也是激光，但不仅仅是激光的应用，还涉及到更多的交叉学科。

光刻机采用激光将图形刻印在半导体上，但光是电磁波，不同的光线具有不同的波长如果需要刻印的图形非常微小，而采用的光线波长较大，则刻不出想要的图形就像你不能用拖把书写痕迹粗大在田字格本上写毛笔字笔划细小。

5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术。

不是根据查询机械器材官网显示，高端晶圆激光切割设备和光刻机是半导体制造过程中的两种不同设备。