1、1华为无法独立研发制造光刻机 光刻机是一个复杂的系统工程，其自身拥有多个核心子系统，每个系统可以说都需要全球顶尖的技术实现，比如双工件台浸液系统物镜系统准分子激光光源等等这些子系统以华为自有技术完全是搞不定的，没有。

2、以下是一些生产物镜的上市公司介绍1麦克奥迪智慧光学应用平台和电气能源科技平台，是全球光学显微镜领域的知名品牌之一，也是国内少数中高端显微镜公司之一国内显微镜市场份额为17%2国望光学国内光刻机物镜系统供应；2光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘。

3、光刻机的本质 光刻机又叫掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心装备光刻，也被称为光学平版刻法或紫外光刻，是一种在薄膜或基板也被称为“晶圆”上对零件图形化的精密加工工艺光刻机，其实就。

4、1测量台曝光台是承载硅片的工作台2激光器也就是光源，光刻机核心设备之一3光束矫正器矫正光束入射方向，让激光束尽量平行4能量控制器控制最终照射到硅片上的能量，曝光不足或过足都会严重影响成像；光刻机原理是通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到晶圆上，最后形成芯片就好像原本一个空空如也的大脑，通过光刻技术把指令放进去，那；注人高折射率的浸没液体可以使更高空间频率的光波人射到光刻胶上， 因此成像解析度得以提高 193nm 浸没式光刻机 浸没式光刻机采用折射和反射相结合的光路设计catadioptric这种设计可以减少投影系统光学元件的数目；对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明对准系统共有两套，具备调焦功能主要就是由双目双视场对准显微镜主体目镜和物镜各1对光刻机通常会提供不同放大倍率的。