光刻机实现国产最大的意义就是解决了芯片问题中芯国际987%的芯片是28nm或更落后的制程贡献的，只要有28nm的光刻机，中芯国际可以用国产光刻机搞定987%的芯片，这就是最大的意义；前不久，上海微电子就公布将于20212022年交货一台国产光刻机，但它是28nm的光刻机要了解，手机处理器销售市场的市场需求已然来到5nm的时期了，28nm非常明显技术落后了很多坚信在绝大多数人来看，以中芯国际为代表性的。

28纳米将会是我们国产光刻机的最高工艺水平，严格来说，这个真的算不上高水平，它的前面还有147532，甚至是1nm但是28纳米是成熟工艺，生产成本低，只要不追求极致性能的情况下，这种制程的芯片，其性能也够用；smee光刻机28纳米据媒体报道，上海微电子装备SMEE股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志。

28nm”光刻机，就因为它生产了45nm芯片在官网的项目时程中，武汉弘芯14纳米工艺大概会在2020年下半年开始测试流片，其7纳米工艺在2020年开始研发而中芯国际在2019年时，其14纳米工艺已经实现量产。

28nm光刻机可以生产7nm

不过根据相关信息，预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机差距还很大，虽然起步晚，但是中国人的不断努力还是会弯道超车的第二，国内公司能否自主采购EUV光刻机来解决这种。

虽然我们也有国产光刻机，但是就算是 目前做得最好的上海微电子，目前也止步于90nm光刻机 上海微电子在日前宣布两年内可以下线28nm国产光刻机因此有不少网友表示，难道华为一个搞芯片设计的，两年时间就能突破光刻机。

28nm光刻机可以加工多少nm的芯片

1、科益虹源攻克的ArF浸没式激光器技术，可以把国产光刻机一举推向28nm以下的先进制程这是中国半导体产业发展的 历史 性节点采用ArF光源的浸没式DUV光刻机是目前全球使用最广泛的光刻机，可以完成45nm10nm制程的芯片制造，足。

2、不可以当然最先进的光刻机，是荷兰ASML公司制造的由于受到专利限制，我国没法买ASML制造的光刻机当前上海微电子已研发出支持28nm工艺的光刻机，首台已于2021年初交付客户28nm虽然相当于荷兰ASML公司十年前的水平，但是。

3、我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端。