国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额中科院SP超分辨光刻机 提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导经过近。

根据查询2023年中国光刻机市场研究报告得知，2021年国内光刻机产量为75台，2022年中国光刻机的产量为95台，2023年中国从全球最大的光刻机供应商荷兰ASML公司购买了400台最新的光刻机，所以截止至2023年中国一共有570台；生产线和研发用的低端光刻机为接近接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上主要有德国SUSS美国MYCRO NXQ4006以及中国品牌光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动半自动全自动A 手动指的是对准的调节方式。

中国现有光刻机数量

”2022年1月，“中国不太可能独立研制出顶级光刻技术，但也不是说绝对不行因为我知道物理定律在中国和这里是一样的，永远不要说永远，他们一定会尝试的”2023年4月初，“中国自研光刻机是破坏全球芯片产业链”2023。

中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心。

中国现有光刻机或成废铁

目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第。

中国光刻机现在达到22纳米，是指中国研制出一种新型光刻机，可以实现22nm工艺制程这种光刻机叫做超分辨率光刻机，是中国科学院光电技术研究所在2019年实现突破的设备超分辨率光刻机采用表面等离子超衍射光刻，产生波长较短。

SMEE光刻机研发成功的意义上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。