因为芯片制造是有技术瓶颈的，荷兰ASML公司就说了，他们制造出来最先进的135纳米波长的极紫外光光刻机，制造出来的晶体管，栅极的极限长度就是15纳米即使后面光源的波长再短，但是晶体管会漏电，一旦漏电就会短路，芯片；英专家美国后悔也晚了据了解，就在曾经中国举行了中国科学院“率先行动”计划发布会，而第一阶段就是要解决中国在光刻机上被“卡脖子”的难题，而除了光刻机，还需要解决航空轮胎轴承钢等方面的问题，并签署军令状。

达到了10亿元一台并且供不应求，但是这个价格仍然还是比较合理的，而如果我们想要在科技方面取得更大的进步和创新，也需要突破这一个难题生产出属于自己的光刻机，只有这样才能让我们的芯片变得更加充足。

光刻机难题在哪

第二技术难度光刻机技术一直是垄断行业，掌握在发达国家手中，中国想要研究光刻机，在没有任何资源的情况下只能凭借自己的能力去研究，但是技术上差距太多，肯定会有很多的难题，因此在研发过程中技术上的难题成为很多人。

报告了一种新型粒子加速器光源ldquo稳态微聚束rdquoSteadystate microbunching，SSMB的首个原理验证实验这次研究成果究竟有何重要作用简而言之就是 有望解决光刻机自主研发难题 那又有人问，什么是光刻机光。

事实上，华为并不是只搞了光刻机，其正在全面出击攻克各种芯片难题就比如华为还先后发布了芯片叠加技术和超导量子芯片专利，尤其是芯片叠加技术，可以通过叠加的方式，将两颗14nm芯片做成相当于7nm芯片性能的高端芯片不管。

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对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明对准系统共有两套，具备调焦功能主要就是由双目双视场对准显微镜主体目镜和物镜各1对光刻机通常会提供不同放大倍率的。

可以预料的是，在中科院的支持下，国产光刻机肯定能不断地取得进展，这项难题很快就会被解决不仅如此，最近中科院正式官宣，2项技术取得突破，难度堪比光刻机也就是说，除了光刻机之外，中科院又攻克了2项难度极高的。