1、现如今我国面临的最大光刻机技术难题，就是难以突破他的精细程度，我国现如今最高的技术不过90nm，但海外的光刻机已可达7nm，这种核心技术只掌握在几个国家之中，有人可能...

因为芯片制造是有技术瓶颈的，荷兰ASML公司就说了，他们制造出来最先进的135纳米波长的极紫外光光刻机，制造出来的晶体管，栅极的极限长度就是15纳米即使后面光源的波长再短...