1、现如今我国面临的最大光刻机技术难题，就是难以突破他的精细程度，我国现如今最高的技术不过90nm，但海外的光刻机已可达7nm，这种核心技术只掌握在几个国家之中，有人可能有疑问，90nm的不能用吗为什么一定要数值越小。

2、对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明对准系统共有两套，具备调焦功能主要就是由双目双视场对准显微镜主体目镜和物镜各1对光刻机通常会提供不同放大倍率的；还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为芯片；摘要光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难全球只有3个国家能造在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本中国也可以制造光刻机但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今。

3、今天，很少有国家拥有原子弹，但高端光刻机比原子弹还稀少，到目前为止，只有两个国家拥有，即荷兰和日本有人会问，这台光刻机是做什么的光刻机是芯片制造的核心设备之一，芯片生产有光刻机，封装有光刻机，LED制造；还需要攻克一系列的技术难题退一步讲，就算是中国的光刻机与刻蚀机都达到世界领先就解决问题了么ASML的EUV光刻机我们已经下单等待交货了，是不是到货以后中国就可以生产7nm甚至是5nm的芯片了不要把问题想简单了，以为；达到了10亿元一台并且供不应求，但是这个价格仍然还是比较合理的，而如果我们想要在科技方面取得更大的进步和创新，也需要突破这一个难题生产出属于自己的光刻机，只有这样才能让我们的芯片变得更加充足。

4、从20世纪60年代初开始，中国就有半导体公司发明了芯片蚀刻技术，拉开了光刻机发展的序幕随后，经过37年的发展，荷兰的阿斯麦尔寻求建立自己的光刻机产业链，然后垄断了整个全球市场在这个产业链中，91%的关键部件来自国外。

5、美国一位技术工程师曾说，在制造一台光刻机时，一个零件就需要十年时间来调整，这句话也能体现高精度光刻机的制造难度我国在制造光刻机时还面临其他难题首先就是光刻机领域科研实力不够我国科研发展起步较晚，在光。