生产光刻机上市公司ABM上海微电子装备有限公司佳能尼康1ABM ABM公司成立于1986年，总部位于美国硅谷SanJose主要经营光罩对准曝光机光刻机，单独曝光系统，光强仪探针公司的主要市场在美国和亚洲ABM总部。

光刻机的最新消息如下1上微中科院走ASML路线，全程规避美规采用1X千瓦60Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶2广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率超高重复频率。

不好用，上海微电子最先进的SSA600系列光刻机只能用于90nm制程的芯片制造并且，上海微电子的光刻机的实际出货情况也并不理想；而光刻机巨头ASML目前的水平是7nm EUV，事实上它也正朝着更先进的极紫外光刻机5nm工艺水平迈进了国内外水平差距明显图源上海微电子官网光刻机的现况光刻机是半导体芯片制造业中的最核心设备，是芯片制造过程中的。

上海微电子目前已经量产最先进的SSA60020系列光刻机，依旧采用的是193nm ArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额而根据国内官方媒体最新报道。

当前中国有能力自己生产光刻机，上海微电子装备有限公司通过十七年的“卧薪尝胆”，持续攻关，基本掌握了高端光刻机的集成技术，并部分掌握了核心部件的制造技术，实现了“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想光刻机是一个；因此，可以明确地说，上海微电子前道光刻机进入燕东公司的产线是真实的。

smee光刻机28纳米据媒体报道，上海微电子装备SMEE股份有限公司创新技术，在之前90nm的基础上，宣布在2021年至2022年交付国产第一台28nm的immersion式光刻机虽然与当前主流荷兰的7nm芯片制备工艺还有大的差距，但也标志。