国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其。

SMEE光刻机研发成功的意义 上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。

国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘。

国外品牌主要以荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主位于我国上海的上海微电子装备集团股份有限公司SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成。

然而，看似完美的产业链体系，只需要其中一家核心部件供应商卡脖子，就能让整条产品线陷入短暂“瘫痪”，芯片如此，光刻机也是如此 所以，越来越多企业意识到，掌握核心技术，才是长远发展的根基 国产新能源中就有鲜明的例子，部分“组装”。

全世界只有中国日本荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度目前，荷兰ASML一家公司。

90纳米美国拉拢日本和荷兰组建所谓的封锁联盟，连用于成熟工艺的DUV光刻机也试图不卖给中国芯片，阻止中国芯片的发展，上海昆山的同兴达科技有两台国产光刻机入驻生产线，由上海微电子自主研发90纳米光刻机昆山同兴达芯片封测。

光刻机品牌主要有ASML，尼康，佳能，欧泰克，上海微电子装备，SUSS，ABM， Inc。