38nm根据查询科技指南官网得知，ASML的TWINSCANNXT2000i型号是最先进的DUV浸润式光刻机之一，ASMLNXT2000i+是一款采用128nmArF光源NA135的高端光刻机，具有非常高的分辨率和精度，分辨率达到38nm采用了先进的光学；荷兰芯片新规影响的duv型号包括光学分辨率光源技术应用领域等等1光学分辨率 荷兰芯片新规可能会影响DUV光刻机的光学分辨率由于荷兰芯片法规对光刻胶和光学元件的限制，DUV光刻机的光学分辨率可能会受到一定的影响这。

我们中国在今年成为了ASML公司DUV光刻机的最大客户按购买金额排名第一，在ASML公司62台的销售总额中占比34%，比去年的占比22%高出了12个百分点，比今年排名第二的韩国高出5个百分点，比排名倒数第二和倒数第一的日本。

DUV光刻机SSA800

虽然看起来光刻机的技术并不复杂，但因为性质特殊，对精度要求极高，其中所蕴含的 科技 水平之高，在世界范围内也仅有数家公司能够制造 光刻机分为两种，分别是DUV光刻机和EUV光刻机其中DUV代表着深紫外线，而EUV代表着极深紫外线。

荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个135。

根据次年阿斯麦公司所公布的第一季度财报上来看，在2022年的前三个月，阿斯麦共计对中国出售23台DUV光刻机，中国再次成为阿斯麦最大买家 值得一提的是，阿斯麦公司 历史 上对中国出口的DUV光刻机一共才有50多台，仅仅今年便占据了一半。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻。

也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首台采用ArF光源的SSA80010W光刻机，这是一台国产浸没式DUV光刻机，可实现单次曝光28nm节点所以网络里一直流传着这个。

作为光刻机领域的佼佼者，ASML公司有着垄断行业的地位受于华为事件的影响，美国对该公司有明令限制，就是最先进的EUV光刻机是不能卖给我们的因为公司核心技术来自于美国，ASML也不得不从但低端一点的DUV光刻机是；光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。