1、2光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀。

2、能制造高端光刻机的只有荷兰ASML镜头来自德国，日本Nikonintel曾经购买过Nikon的高端光刻机和日本Canon三大品牌为主高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机高端光刻机堪称现代光学工业之。

3、光刻机的重要性 光刻机在芯片制造中扮演着至关重要的角色它是实现芯片集成度性能和功能的关键工艺之一，是紧密工业的结晶在芯片制造中，光刻机负责将图案从掩膜传递到芯片表面，实现精确的图案转移和高分辨率制造图案。

4、常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影硬烘刻蚀等工序Photolithography光刻 意思是用光来制作一个图形。

5、光刻机的种类 1接触式曝光Contact Printing掩膜板直接与光刻胶层接触曝光出来的图形与掩膜板上的图形分辨率相当，设备简单接触式，根据施加力量的方式不同又分为软接触，硬接触和真空接触2接近式曝光。

6、半导体设备系列光刻机是半导体工业中的“皇冠”1原理 光刻是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束的作用下发生化学变化，通过后续曝光显影刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术激。

7、掩膜版是制作掩膜图形的理想感光性空白板，通过曝光过程，这些图形的信息将被传递到芯片上，用来制造芯片掩膜版应用十分广泛，在涉及光刻工艺的领域都需要使用掩膜版，如ICIntegrated Circuit，集成电路FPDFlat Panel。

8、刻蚀相对光刻要容易光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者没有图案的部分，留下剩余的部分“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆或者叫硅片上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着。