今天，很少有国家拥有原子弹，但高端光刻机比原子弹还稀少，到目前为止，只有两个国家拥有，即荷兰和日本有人会问，这台光刻机是做什么的光刻机是芯片制造的核心设备之一，芯片生产有光刻机，封装有光刻机，LED制造；刻蚀相对光刻要容易光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者没有图案的部分，留下剩余的部分“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆或者叫硅片上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着。

比如说我们现在手机电脑所使用的芯片，我们的手机芯片是使用8毫米的还是6毫米的还是5毫米的，很大程度上取决于光刻机到底有多先进，而我们没有精度特别高的工作机，所以我们的自主芯片有难度有很多企业是可以自己制造光刻机；刻蚀机和光刻机的区别有工艺不同难度不同两点工艺不同刻蚀机是将硅片上多余的部分腐蚀掉，光刻机是将图形刻到硅片上难度不同光刻机的难度和精度大于刻蚀机光刻是指在涂满光刻胶的晶圆或者叫硅片上盖上事。

光刻机难度有多大

1、2光刻机技术难度大研发周期长光刻机是一种高精密高技术含量的设备，其研发和制造周期通常需要十年以上，需要庞大的研发团队和巨大的资金投入，国内企业在这方面也存在着困难3光刻机需要掌握高精密的制造工艺光。

2、目前高端的EUV光刻机是荷兰ASML公司生产的，包括台积电也没有生产高端光刻机的能力，台积电和三星都是从ASML公司购买光刻机，这是因为光刻机是全球很多个国家共同的结晶，由数万个零部件构成，依靠单一公司要想直接做出高端EUV光刻机难度是。

3、我国在芯片领域当中，除了有着很高的技术壁垒需要突破之外，而技术难度堪比登天的光刻机也同样是十分重要的，对我国的发展来说，更是起到了很大的作用，但是我国在光刻机当中的发展在研发时日之上相对来说是比较晚的，而光。

4、其次难度不同光刻机的难度和精度大于刻蚀机蚀刻机和光刻机其实就是完全不同的两种设备不论从功能还是结构上来说都是天差地别，光刻机是整个芯片制造过程中最为 核心的设备，芯片的制程是由光刻机决定的，而不是。

光刻机难度100

我不相信先进光刻机的难度要大于原子弹，我们当初是一穷二白，完全是从零开始，不也以飞快的速度制造出来了何况对于光刻机生产我国还是有一些基础的，只是现在还没有达到国际先进水平而已，这比当初制造原子弹的情况要好。