1、截止2022年6月，世界上最先进的光刻机已经能够加工13 纳米线条而我们人类的头发丝直径大约是 50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径15000的线条荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光；光刻机特色1高精度和高分辨率光刻机能够实现微米甚至亚微米级别的图案转移，具有极高的精度和分辨率这使得它在制造高密度集成电路和微型器件时非常重要2高效性和生产性光刻机能够在短时间内完成多个芯片或器件。

2、1978年，1445所在GK3的基础上开发了GK4，但还是没有摆脱接触式光刻机1980年，清华大学研制第四代分步式投影光刻机获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平1981年，中国科学院半导体所研制成功JK1型半自动接近；光刻机决定了芯片的精密尺寸，设计师设计好芯片线路，再通过光刻机将线路刻在芯片上，其尺度通常在微米级以上光刻机是芯片生产中最昂贵也是技术难度最大的设备，因为其决定了一块芯片的整体框架与功能光刻机的作用是；其中，上海微电子装备有限公司已经量产的是90纳米，这是在中国最领先的技术其国家科技重大专项“极大规模集成电路制造装备与成套工艺专项“的65nm光刻机研制，目前正在进行整机考核对于光刻机技术来说，90纳米是一个技术；所以只有少数国家能够掌握光刻机制造技术，其中包括荷兰ASML公司日本尼康公司等国际领先企业光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯片的制造，因此需要达到极高的精度要求例如ASML公司的最新款光刻机能够实现高达13。

3、主要性能指标 光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式光刻的分辨率受受光源衍射的限制；光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有12亿美金一台的光。

4、笫一代光刻机是436纳米一切光刻机的核心零件是围绕光源来的，根据光源的改进，光刻机一共可以分为5代，分别是最早的436纳米光刻机，然后第二代是365纳米波长，第三代是248纳米，第四代是193纳米波长，第五代是135。