1、光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻；要是没有了光刻机，我们就没有办法造出芯片，自然也就不会有我们现在的手机电脑了2光刻机是用于芯片制造的核心设备，按照用途可以分为用于生产芯片的光刻机用于封装的光刻机和用于LED制造领域的投影光刻机3；光刻机是制造芯片的必备设备芯片是干什么用的可能有人会嘲笑这个问题，说它太初级，太简单是的，有些人可能不知道芯片的用途，但世界上几乎每个人都在使用芯片这不是夸张，是事实芯片的用途手机高铁汽车。

2、1紫外光刻机是利用一定波长的紫外光，通过掩模版使特定区域的光透过，从而辐照到光刻胶表面进行曝光2红外线光刻机能够用于设计平面与复杂3d结构等工件，用以实现计算机成像，是实现3d切割加工的核心设备；华为光刻机是芯片制造的核心设备之一光刻机在加工芯片的过程中，光刻机通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上，然后使用化学方法。

3、中国既然有了第1台90纳米的光科技，65纳米28纳米，那就是很快就能攻破的事在加之中国很多技术是先用于军事方面，所以我就在想中国肯定在军事方面已经拥有了65甚至28纳米的光刻机技术只是还没有向民用方面转用1华为；高端光刻机被称为“现代光学工业之花”，制造难度很大，全世界只有少数几家公司能制造生产集成电路的简要步骤利用模版去除晶圆表面的保护膜将晶圆浸泡在腐化剂中，失去保护膜的部分被腐蚀掉后形成电路用纯水洗净残留在；在现在的各种各样的电子产品中，芯片可以说是最重要的零件，而光刻机就是芯片制造的核心设备之一按照用途可以分为好几种，用于生产芯片用于封装用于LED制造领域用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的。

4、相信大多数人都清楚，光刻机的用途是刻字光刻机是生产手机芯片的重要机器之一目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度光刻机80%以上的市场份额目前；光刻机的作用 光刻机主要用于半导体芯片的生产，利用光学投影技术把电路图案投影到硅片上进行照射，从而在硅片上形成显影图样光刻机的主要作用是在制造半导体芯片时进行微缩制程，从而实现高集成度和高性能的芯片光刻机的。