高精度的设备需要一代一代堆出来，因为这样的机制就让高端光刻机的未来毫无生机既然这样的老路没有什么希望，那么只能另辟蹊；连14纳米以下的DUV光刻机都不让卖给中国了这导致A...

1、光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上...