2光刻机是“人类智慧集大成”的产物，环顾全球，最先进的7nm EUV光刻机只有荷兰的ASML阿斯麦能够生产，超过90%的零件向外采购，整个设备的不同部位同时获得了全世界最先进的技术，因此可以在日新月异的芯片制造业取得；虽然看起来光刻机的技术并不复杂，但因为性质特殊，对精度要求极高，其中所蕴含的 科技 水平之高，在世界范围内也仅有数家公司能够制造 光刻机分为两种，分别是DUV光刻机和EUV光刻机其中DUV代表着深紫外线，而EUV代表着极深紫外线。

华为Mate60搭载的麒麟9000s芯片采用了中芯国际的7纳米N+2工艺，并在整体性能上达到了市场上其他7纳米芯片的水平这一发现标志着中国半导体产业在没有EUV光刻机的情况下也能够制造先进制程的芯片中芯国际是纯商业性集成。

中国有EUV光刻机吗

1、用来制造国防军事领域芯片的大尺寸中端光刻机，中国一直有，而且早就有 大家一定要搞明白这件事，和目前很多需要进口的零配件一样，中国不造，是基于市场考量，不是技术无法攻关很多中国没掌握的技术不是没能力，而是出。

2、把焦距拉近能使成像质量改进一些，但是同等euv光源强度在更近焦距时光强度下降，这又增加了曝光时长，降低生产效率 所以，以前中国的EUV光刻技术不是没有实现，而是技术水平不达标，用于批量生产光刻机效率和良率无法和ASML的产品竞争还有视。

3、尽管理论上用多重曝光multiplepatterning可以做5nm工艺，但是良率会很低，无法盈利所以台积电的5nm技术节点N5，就开始用EUV光刻机极紫外光了但是因为中芯国际无法获得EUV光刻机，所以如果国内5nm制程的需求。

4、最后，在知乎上都是个人立场，至于asml公司，但凡多了解一点就知道它一直寻求与中国合作，川普上台前差点儿把euv光刻机运到中国去什么搜集情报，这种想象还真的搞成了敌矛盾至于本人，多少年前就说过光刻机就是一个工艺。

中国有euv光刻机嘛

然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm工艺制程EUV光刻机，两者差距不得不说非常大光刻机的最小分辨率生产效率。