从技术的限制来说以及成品率结果来说，光刻工艺是目前较为成熟的先进制程方式，但是对于大多数的通讯和基带以及 汽车 芯片来说，基本稳定在28纳米到14纳米之间，其加工方式和工艺还是光刻，其实也绕不开光刻机的需求，其装备；不需要EUV光刻机，纳米压印技术可以实现5nm芯片最近的新闻报道称中国芯片制造商成功开发了一项新技术，即NIL纳米压印技术这项技术被认为能够承担起EUV光刻机的工作，并且具有更低的生产成本NILNanoimprint Lithography。

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五纳米芯片不需要光刻机是真的佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术，将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用NIL纳米压印技术类似于印刷技术，通过将电路图案刻录到专用的quot章子quot上，然后将quot章子quot压印到硅晶圆上。

替代光刻机的技术有纳米压印光刻NIL电子束光刻机EBL自组装光刻1纳米压印光刻NIL先在模具上刻上纳米电路的图案，再把这个图压在硅片的感光材料上，同时用紫外线照射，就能完成转印，这种方式可以达。

光刻机 2nm

NIL光刻机相对于EUV光刻机来说，光源的成本更低，不需要使用昂贵的EUV激光源同时，NIL光刻机使用一些DUV或者更成熟的光源结合纳米涂层的方法，可以实现一至两纳米制程的量产，具有较高的制程精度和生产效率尽管NIL光刻。