能造光刻机的国家有荷兰日本美国韩国中国1荷兰 荷兰是高端光刻机生产的领导者，该国ASML是全球最大的光刻机制造商，其高端市场份额占比超过80%ASML的EUV光刻机是当今最先进的光刻机之一，主要应用于全。

因为芯片制造是有技术瓶颈的，荷兰ASML公司就说了，他们制造出来最先进的135纳米波长的极紫外光光刻机，制造出来的晶体管，栅极的极限长度就是15纳米即使后面光源的波长再短，但是晶体管会漏电，一旦漏电就会短路，芯片；1光刻机可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造按照光源和发展前后，依次可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影光刻机的工艺光刻机可分为接触式光刻直写式光刻投影式；5nm光刻机的原意应该是可以实现5纳米制程的光刻机，是EUV极紫外线光刻机EUV使用了135纳米的极紫外线激光源，比193纳米深紫外线光源的DUV光刻机能力更强纳米符号nm，即为毫微米，是长度度量单位1纳米=10的；EUVExtreme Ultraviolet光刻机是一种用于制造高端芯片的先进设备与传统光刻机不同的是，EUV光刻机使用的是极紫外光源，具有更短的波长和更高的分辨率，能够制造尺寸更小的芯片，如5nm芯片2 EUV光刻技术的优点 与。

23 控制系统 对于EUV光刻机来说，控制系统非常重要这个系统可以保证光学元件和光刻模板之间的对齐，从而实现纳米级别的制造精度控制系统还需要定期维护，以确保设备的稳定性和一致性3 5nm芯片生产流程 5nm芯片制造过。

五纳米芯片不需要光刻机的说法并不完全准确虽然光刻机在制造微电子器件中起着至关重要的作用，但五纳米芯片的制造过程中仍然需要使用光刻机或其他类似的设备光刻机是制造微电子器件的关键工具之一，它可以将集成电路图案；五纳米芯片不需要光刻机是真的佳能公司宣布通过NIL纳米压印技术，将在2025年实现制造5nm芯片而不需要EUV光刻机的使用NIL纳米压印技术类似于印刷技术，通过将电路图案刻录到专用的quot章子quot上，然后将quot章子quot压印到硅晶圆上。

如果美国不批，基本上就没可能了即便台积电没有使用美国的技术，也不可能第二台积电不可能跳过美国的原因是，荷兰的光刻机同样的，中芯国际就差光刻机就有能力生产7nm的芯片，在7nm的芯片上再在一年时间年达到5nm。