光刻机国产化前景广阔光刻机是现代半导体制造业的关键设备之一，其技术水平直接影响到半导体产品的质量和性能我国作为全球最大的半导体市场之一，长期以来一直依赖进口光刻机，国产化程度较低但是，随着国内技术的不断进步；在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机技术进步明显但是与国外的水平相比，仍有一定差距。

国产光刻机投产是真的吗

上海微电子目前已经量产最先进的SSA60020系列光刻机，依旧采用的是193nmArF光源技术，可用于低端的90nm芯片，更重要的是上海微电子的光刻机设备掌握着国内低端光刻机设备领域近80%市场份额而根据国内官方媒体最新报道，上。

国产光刻机产品应用主要其中在半导体后道封装LED面板等领域，2020年中国光刻机产量为62台，2021年国内产量为75台光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的技术，把。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司。

国产光刻机最新消息

28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。