荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个135；世界最高端的光刻机来自荷兰目前世界上最好的光刻机不是来自美国，韩国，英国日本等这些芯片强国，而是来自荷兰的阿斯麦尔阿斯麦尔因为押宝台积电林本坚提出的浸润式显影技术，让光源技术突破极限，这个坚持给阿斯麦尔带来了。

高水平美国在光刻机领域的发展好，能够达到世界最顶尖行业水平，光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。

光刻机美国能造吗

1、10月末，美国商务部官员透露，美国正在努力说服荷兰和日本加入其打压中国半导体的阵营今年7月，彭博社就报道称，美国已向荷兰政府施压，要ASML扩大对中国的禁售范围，即在禁止向中国出售最先进的极紫外线光刻机EUV基础上。

2、所以只有少数国家能够掌握光刻机制造技术，其中包括荷兰ASML公司日本尼康公司等国际领先企业光刻机制造中的微米级别的误差会严重影响芯片的制造，因此需要达到极高的精度要求例如ASML公司的最新款光刻机能够实现高达13。

3、俄罗斯不怕美国制裁，是因为俄罗斯的市场小，对于芯片和光刻机需求少俄罗斯对芯片和光刻机的要求并不高俄罗斯绝对是地大物博的国家，其对外经济主要是能源粮食等基础物质，而俄罗斯自身工业也是以重工业为主，所以俄罗斯对。

光刻机美国能做到几纳米

美国最好光刻机荷兰中国日本美国韩国可以做光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的所以说，光刻机就是把很大的电路图，通过透镜缩小到芯片那么大，然后用光线侵蚀掉光刻胶，达到自动。

主导了光刻机产业链的上游光刻机是制造芯片的核心装备，因为美国主导了光刻机产业链的上游，所以在出售时，需要要美国同意才可以进行出售。

不要老是盯着光刻机，国产芯和美国芯的真正差距还是在专利和标准上！ 许多人认为中国的芯片制造工艺不行，的确目前国产的光刻机只能达到90nm的精确度，国内最好的芯片代工厂中芯国际的工艺水平也只在28nm14nm之间但是芯片厂商完全可以。

能造光刻机的国家有荷兰日本美国韩国中国1荷兰 荷兰是高端光刻机生产的领导者，该国ASML是全球最大的光刻机制造商，其高端市场份额占比超过80%ASML的EUV光刻机是当今最先进的光刻机之一，主要应用于全。