因此，如果美国强行将顶级光刻机厂家ASML搬去美国本土，极可能走日本尼康衰败的老路，反到害了ASML，形成双输再有，ASML公司拥有独特的合作模式，完美地打造风险和利益共...

SMEE光刻机研发成功的意义 上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市...

荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的...