随着半导体技术不断进步，7纳米nm制程迅速发展而7nm光刻机作为半导体生产线的重要设备之一，也随之得到了极大的关注1更高的精度 7nm光刻机与前几代光刻机相比，具有更高的分辨率和更精细的曝光技术它能够在极小。

截止2022年6月，世界上最先进的光刻机已经能够加工13 纳米线条而我们人类的头发丝直径大约是 50~70微米，也就是说，光刻可以刻画出只有头发丝直径15000的线条荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光。

光刻机极限是1纳米现有芯片制造的原材料是硅，也就是我们常说的硅芯片一块非常小的芯片实际上整合了数以亿计的晶体管，每个晶体可看作是一个可控的电子开关，晶体管由源极漏极和位于他们之间的栅极所组成，电流从。

7纳米全世界只有荷兰能够制造顶级的光刻机，ASML更是步入5纳米的光刻机时代，在荷兰规定可以销售的光刻机中，能够支持7纳米工艺制程。

2纳米还是构想或许在先进实验室有原理能实现它，市面上并无能够商用的“光刻机”目前全世界最先进的制程还在3nm， 2nm的技术预计 2025年会投入商用所以预估最快2024年2纳米光刻机才会正式问世。