1、光刻机是谁发明的 尼埃普斯光刻机的发明时间较早，但却并未在行业中得到应用，直到第二次世界大战时，才被应用到印刷电路板上，在塑板上通过铜线路制作，才让电路板得到普及，然后就成为看电子设备领域中关键的材料之一；光刻机的最新消息如下1上微中科院走ASML路线，全程规避美规采用1X千瓦60Khz的超高重复频率二氧化碳激光打靶2广智院与华中科技大学，采用分时高功率光纤激光器射击液态锡靶的方式绕开超高功率超高重复频率。

2、对准系统共有两套，具备调焦功能主要就是由双目双视场对准显微镜主体目镜和物镜各1对光刻机通常会提供不同放大倍率的目镜和物镜供用户组合使用CCD对准系统作用是将掩模和样片的对准标记放大并成像于监视器上工件台；2技术难度方面，光刻胶的目的主要有两个光刻胶原理，小孔成像，技术难度已攻破，难度小，光刻机装备的核心部件有光源镜头工作台，每个部件都结构复杂经过精心设计，难度大；区别1 工作原理接近式光刻机是通过将掩模与光刻胶直接接触，然后使用紫外光照射来进行图案转移而步进式光刻机是通过将掩模与光刻胶分开，然后使用光束扫描的方式进行图案转移2 精度接近式光刻机通常具有较高的。

3、对准系统另外一个技术难题就是对准显微镜为了增强显微镜的视场，许多高端的光刻机，采用了LED照明对准系统共有两套，具备调焦功能主要就是由双目双视场对准显微镜主体目镜和物镜各1对光刻机通常会提供不同放大倍率的；ASML荷兰光刻机制造商阿斯麦传来新消息，关于新一代EUV极紫外线或者远紫外线光刻机，核心三大件已到货，分别包括物镜系统高 NA 机械投影光学器件，光源系统镜头以及新款的晶圆载物工作台目前，不清楚三大件来自哪；摘要光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难全球只有3个国家能造在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本中国也可以制造光刻机但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今；光刻机原理 是利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用这就是光刻的作用，类似照相机照相照相。

4、位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作生产线和研发用的低端光刻机为接近接触式光刻机，分辨率通常在数微米以上主要有。