还有一个原因，研发时耗费的资金会非常多，可以说是天文数字对于中国而言，钱都不是阻碍我们发展光刻机的原因，可是因为中国发展时间不足，所以对该行业不是很了解，熟悉程度也低，别说建造了，研制的时候究竟该从哪里开始。

就如中科院微电子所院士所说， 在光刻机方面国内与国外先进相比相差1520年的距离即使是国内最先进的上海微电子，也还有相当长的路要走 如果说上海微电子的光刻机全球领先，大家都不会相信荷兰ASML最新的光刻机为7nm制程工艺。

我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端。