1964年中国科学院研制出65型接触式光刻机1970年代，中国科学院开始研制计算机辅助光刻掩膜工艺清华大学研制第四代分部式投影光刻机，并在1980年获得成功，光刻精度达到3微米，接近国际主流水平而那时，光刻机巨头ASML还没。

那么面对劲敌台积电的动作不断，三星显然是开始着急了，所以就连三星的董事长李在镕亲自前往ASML公司洽谈光刻机事宜，可以看出三星对于光刻机有多么的迫切了三星之前还制定了一个目标，就是要在十年后超越台积电，如果从目前。