在加之中国很多技术是先用于军事方面,所以我就在想中国肯定在军事方面已经拥有了65甚至28纳米的光刻机技术只是还没有向民用方面转用1华为需要75nm EUV,DUV用处不大 2这个光刻机肯定签订了附加条款,不能给中国。
90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额,这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面,上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机,这是国产光刻机最高水平,而ASML如今已量产7nm。
以至于很长一段时间,科研圈谈芯色变,严重干扰了芯片行业的正常发展目前上海微电子装备有限公司能量产的光刻机是65nm制程2019年,由中国科学院光电技术研究所承担的超分辨光刻装备项目在成都通过验收,完成国际上首台分辨。
中国有自己的光刻机,由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收,这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备,为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的。
尤其是EUV光刻机,在2019年仅向全球供应了26台,其中近一半都被提供给了中国台湾的台积电而中国大陆的中芯国际连续多年向ASML公司提出购买要约,并先期支付巨额交易费用,却迟迟等不到荷兰ASML方面发货的消息。
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