在前端工艺方面，如核心光刻工艺方面，国内目前推出了90 纳米光刻机装备，这与国际顶尖装备企业如得到国际集成电路制造巨头全力支持的荷兰ASML 公司正在研发推出10 纳米及以下节点工艺装备的差距较大，而国内企业在提供尖端生产工艺高效。

光刻机的现状指甲盖大小的芯片，密布着成千上万的线路，无异于米粒中建造一座城市要做到纹丝不乱，需要极端精准的照相机，光刻机光刻机的精度，决定了芯片的上限高精度的光刻机产自ASML尼康和佳能三家，而顶级。

亚微米级的cmos工艺的掩模版的设计流程如下光刻机就是用光来雕刻的机器，是用来实现光线侵蚀光刻胶的目的所以说，光刻机就是把很大的电路图，通过透镜缩小到芯片那么大，然后用光线侵蚀掉光刻胶，达到自动形成电路的。