1、提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国科学院光电技术研究所主导经过近七年艰苦攻关研制的“超分辨光刻装备”项目该项目下研制的这台光刻机是“世界上首台分辨力最高的；目前我国的光刻机厂家正在快速发展中，虽落后西方国家一步，但未来是光明可见的光刻机的种类品牌多式多样，其重要功能各不一样光刻机Mask Aligner又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心。

2、中国有光刻机，位于我国上海的SMEE已研制出具有自主知识产权的投影式中端光刻机，形成产品系列初步实现海内外销售正在进行其他各系列产品的研发制作工作光刻机又名掩模对准曝光机曝光系统光刻系统等，是制造芯片的核心；华为有46台光刻机半导体产业已经成为了全球科技大战的核心战场在这场战场中，华为一直备受关注自从受到国际贸易制裁后，华为面临着巨大的压力，特别是在半导体供应链断裂的风险下2023年9月，郭台铭发出强烈的支持信号。

3、从出口企业注册地来看，2020年，我国出口的39台光刻机中，有28台是由上海市企业出口，该市有我国本土光刻机的领先企业上海微电子和芯源微以上数据参考前瞻产业研究院中国光刻机行业市场前瞻与投资战略规划分析报告；随着ASML光刻机的运抵，国内光刻机企业也面临着更大的压力和竞争目前，国内光刻机企业数量较多，但主要研发领域仍集中在相对成熟的65nm45nm技术产品上，且研发能力和技术水平与ASML等国际领先企业有较大差距ASML光刻机；目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司，既上海微电子，所以上海微电子排名第；国内唯一一台7nm光刻机在武汉弘芯中芯国际所采购的ASML光刻机设备，只能够实现14nm芯片量产，国内最先进的光刻机设备并不是中芯国际目前所使用的光刻机设备，而是武汉弘芯在2019年12月所购得的7nm光刻机，当时武汉弘；1985年，机电部45所研制出了分步光刻机样机，通过电子部技术鉴定，认为达到美国4800DSW的水平这应当是中国第一台分步投影式光刻机，中国在分步光刻机上与国外的差距不超过7年但是很可惜，光刻机研发至此为止，中国开始。

4、华为有光刻机华为作为中国科技巨头，不仅在手机通信等领域取得了不俗的成就，还在芯片研发方面默默发力华为曝光了一款神秘的自研光刻机，这款华为自研光刻机采用了最先进的技术，可实现更精细的制程工艺，并且具有高精度。