一用途 光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的光刻机还有用于LED制造领域的投影光刻机用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上最大的短板，国内晶圆。

光刻机Mask Aligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干涂底旋涂光刻胶软烘对准曝光后烘显影。

半导体设备系列光刻机是半导体工业中的“皇冠”1原理 光刻是指光刻胶在特殊波长光线或者电子束的作用下发生化学变化，通过后续曝光显影刻蚀等工艺过程，将设计在掩膜版上的图形转移到衬底上的图形精细加工技术激。

光刻胶是在光刻机上涂覆在硅片表面的一层材料，起到保护传导和反射等作用2原理光刻机利用光学系统将光源的光线经过掩膜上的图案放大后，投射到光刻胶上，使光刻胶局部发生化学或物理的变化光刻胶的敏感剂会在。

光刻机原理 是利用光刻机发出的光通过具有图形的光罩对涂有光刻胶的薄片曝光，光刻胶见光后会发生性质变化，从而使光罩上得图形复印到薄片上，从而使薄片具有电子线路图的作用这就是光刻的作用，类似照相机照相照相。

光刻机的概括 光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率。

刻蚀相对光刻要容易光刻机把图案印上去，然后刻蚀机根据印上去的图案刻蚀掉有图案或者没有图案的部分，留下剩余的部分“光刻”是指在涂满光刻胶的晶圆或者叫硅片上盖上事先做好的光刻板，然后用紫外线隔着。

器件的功能性光刻机MaskAligner 又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机对准曝光mag的影响器件的功能性。

光刻机是是制造芯片的核心装备光刻机也可以称为掩模对准曝光机曝光系统或光刻系统等它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的种类可分为接触式曝光接近式曝光投影。

光刻机采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上那么光刻机性能指标是什么呢1 光刻机的主要性能指标有支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产。