光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制4对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度5曝光方式分为接触接近式投影式和直写式6曝光光源波长为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

所以与光源光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度曝光方式分为接触接近式投影式和直写式曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。

是用来产生紫外线杀菌用的，有人在千万别开。