光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制4对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度5曝光方式分为接触接近式投影式和直写式6曝光光源波长为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分...

1最初的两代光刻机采用汞灯产生的 436nm gline 和 365nm iline 作为光刻光源，可以满足08035 微米制程芯片的生产最早的。 光刻机是半导体制造设备...