SMEE光刻机研发成功的意义 上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市场对于中国光刻机的垄断，赢得了国内技术的独立与。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的。

中芯国际是一家成立于2000年的半导体制造企业，总部位于上海张江产业园区，是中国最具规模的集成电路设计制造封装和测试企业之一中芯国际14nm光刻机的来源是荷兰阿斯麦尔公司荷兰阿斯麦尔光刻机目前几乎处于全球垄断地位。

光刻机Mask Aligner又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳。

SMIC是中国最大的芯片制造商之一，也是全球领先的光刻机生产商之一SMIC的光刻机配备了最先进的制造技术，可为全球客户提供高精度高质量高速率的芯片制造服务随着中国的芯片制造业的不断发展，SMIC也在不断提高自身。