1、为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的努力下，中国的光刻机研制跳出了缩小波长增大数值口径来提高分辨力的老路子，为突破22nm甚至10nm光刻节点提供了一种全新的...

SMEE光刻机研发成功的意义 上海微电子公司所研发的“SMEE光刻机”是一台性能堪比先进光刻机的制造设备，其光刻效果能够满足生产高质量的芯片这一研发的成功，也打破了美国市...