1、据说可以做到5纳米，3纳米正在研发中补充 除尼康外，ASML也是很不错的凭借着台积电的“浸入式光刻技术”方案，ASML成功推出全球首台浸润式微影机，将193mm的光源波长一举缩短至132nm而彼时尼康推出的最新光刻机。

2、为7纳米芯片生产线供应刻蚀机中微半导体如今通过台积电验证的5纳米刻蚀机，预计能获得比7纳米更大的市场份额中科院SP超分辨光刻机 提问者所说的中国光刻机达到世界先进水平，应该是指2018年11月29日通过验收的，由中国。

3、芯片工艺制程就是指硅基芯片中删极的宽度，删极宽度=工艺制程的数值，其宽度越窄功耗越低而3纳米是其中的一个制程，一般来说14纳米以下的芯片只能用高端euv光刻机来制造，而在22纳米左右是高端和中端光刻机的分水岭。

4、中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前并兆盯，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。

5、28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用。

6、第三，目前国产最先进的光刻机，应该是22nm根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题。

7、中国光刻机现在达到了22纳米在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化而自己。

8、都是用数字表示芯片等级4nm5nm6nm7nm等等，数字本身就可以区分等级了芯片等级从某个角度来说是光刻机等级的划分，比如14nm以下的基本都是euv光刻机做的，14nm以上是duv光刻机做的甚至i线光刻机等。

9、一如今国内光刻机能达到多少纳米的工艺制作查询官网可以知道，如今最先进的光刻机是600系列，光刻机最高的制作工艺可以达到90纳米但是相比于荷兰ASML公司旗下的EUV光刻机，最高可以达到5纳米的工艺制作而且即将推出3。

10、90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm。

11、一个芯片的制造过程是很复杂的，涉及到许许多多的技术以及专业的工艺，其中有关于芯片制作的核心机器也非常的多，比如蚀刻机清洗机氧化炉，探针测试台等等，光刻机在其中也扮演着举足轻重的位置这些设备在我们国内都。

12、它还率先获得了更先进的极紫外 EUV 光刻机 第二代 EUV 机器被称为High NA 或高数值孔径当前的 EUV 机器的 NA 为 033，但新机器的 NA 为 055NA 越高，蚀刻在晶圆上的电路图案的分辨率就越高这将帮助芯片设计人员。

13、我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法。

14、按照高端中端低端三个档次来划分的话，中国目前是属于第三档，正在努力的向第二档迈进高端光刻机市场被ASML垄断高端光刻机的市场目前只有ASML一家，也算是应了那一句话“无敌是多么，多么寂寞”有朋友习惯把ASML。

15、1华为需要75nm EUV，DUV用处不大 2这个光刻机肯定签订了附加条款，不能给中国高端芯片代工 3光刻机里有美国技术，所以不能够卖给华为 4华为除了光刻机以外，没有芯片产业链，蚀刻机和其他很多很多都要重新制备。