笔者在两难选择！尼康掉队与ASML一家独大下，国产光刻机抄还是不抄？这篇文章中提到，光刻机分为有掩模光刻机和无掩模光刻机，最大的差异是有掩模光刻机在光刻中需要使用刻有电路图形的光掩模板，然后再通过显影刻蚀去胶等；光刻机难，顶尖光刻机更难，但是难的不是光刻机本身，而是其背后10万多个零件的供应链ASML公司的光刻机供应链几乎覆盖了全球大半个半导体产业链，可以这么说， 荷兰光刻机就是全球大半个半导体产业链给“供”起来的。

将其运用到声学滤波器光电调制器等光电芯片制备以及光计算通讯等领域时可以让这些行业拥有较强的发展，也能够让我国在各个领域通过对这项技术的运用超越世界各国，成为该项技术的领先国家此外能够在实施光刻胶膜时达到；美国应用材料光刻机大厂荷兰ASML日本东京电子美国泛林集团美国科磊根据查询中芯国际官网得知，中芯国际五大供应商为美国应用材料光刻机大厂荷兰ASML日本东京电子美国泛林集团美国科磊中芯国际是世界领先的。

此外，在其他核心技术领域内，在芯片设计领域有华为海思紫光展锐中兴微电子等等，在芯片代工上有中芯国际比亚迪，制造设备光刻机上有上海微电子蚀刻机上有中微半导体，EDA工业软件上有华大九天等技术企业的支撑，屏幕；然而，看似完美的产业链体系，只需要其中一家核心部件供应商卡脖子，就能让整条产品线陷入短暂“瘫痪”，芯片如此，光刻机也是如此 所以，越来越多企业意识到，掌握核心技术，才是长远发展的根基 国产新能源中就有鲜明的例子，部分“组装”。

国产光刻机供应链排名

1、但是华为会加强与国内专业芯片供应链的合作，比如与中芯国际上海微电子合作，派驻研发人员一起来攻克光刻机的难关相信在国内企业的共同努力下，未来一两年内实现28nm甚至14nm光刻机完全自主还是有可能的而到了14nm这个。

2、一台高精密光刻机从进厂组装，到调试，再到产品满足合格率，前后需要差不多一年时间中芯国际去年底14纳米芯片投产，从每月生产1500片晶圆，再到60008000，都是在调试过程 精密设备后期还需要售后服务，进行设备桥正，以满足生产需求。

3、一些发达国家的高层可能朝相关人士商议，决定向我国采取经济制裁，不允许出售芯片，但是会影响到其他国家的发展。

4、目前，ASML公司所在的荷兰政府以及美国政府均在对EUV光刻机的出口进行严格的管制，而EUV光刻机是制造芯片的必要设备之一，中国的半导体产业将会面临供应链断裂的风险面对这一局面，中国政府已经出台了一系列的政策，支持国内的。

5、日前，日方有消息传出， 有一家叫做“深圳英唐智控”的中国企业已经获批了收购日本的半导体光刻机设备中企收购了日本光刻机是事实，将给芯片界点亮一盏灯据了解，被收购半导体设备 的日企是“先锋微技术” ，他们家。

6、芯源微是长江存储涂胶显影机供应商公司于2018年9月将1台前道机台发往长江存储进行工艺验证该设备是国产首台套可与光刻机联机的前道Iline工艺机台，可用于28nm及以上产线的加工过程，此前国内这类设备被日本东京电子。

国产光刻机供应链炬光科技

1半导体设备 我们的主角中微半导体所在的领域就是半导体设备细分行业，这个行业主要有两种半导体设备，一是光刻机，一个是刻蚀机中微是以刻蚀机为主要设备的供应商，去年12月公司自主研制的5nm等离子体刻蚀机正式通过台积电。

虽然中国目前可以生产处光刻机，但与三巨头的差距太大最重要的是，国产光刻机的关键零部件也来自美国第二，专利 如果从生产设备层面上我们还有可能去绕开某个厂商或者国家的专利壁垒但是如果从底层零部件开始的话基本。

目前我们还有以光刻机为主的多个环节需要攻克但也必须看到的是，这类“高端”器件，只占到全部市场运用的不足半成实际上绝大部分市场需求，都指向了对制程不怎么讲究的“低端”芯片 当然，所谓“高端”和“低端”实际只是对制程。

大家都说三星的产业链很强，但是三星的GPU设计不是三星设计的，三星的光刻机是ASML的，三星屏幕的蒸馏装置是日本的只能说，如果你想苛求全部的技术一家企业掌握或者是一个国家掌握，那是不可能的就连美国都不可能，因为ARM是英国的，ARM。

1我国的光刻机 ASML的高端光刻机为7nm光刻机，并且7nm EUV光刻机只有ASML可以生产，据说ASML已经准备生产5nm的光刻机 上海微电子SMEE的光刻机为90nm制程 ，差距还是有些远的正是上海微电子90nm制程的光刻机下线之后，ASML。

中国光刻机产品研究已经达到了“中端水平”国产DUV光刻机产品很快就能成批推出规模采用，据报道上海微电子研发出的28纳米国产光刻机整机已经安排生产，再过一两年一定能用于国产芯片的生产，而且，按中芯国际梁孟松在2020。