因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长；我国造不出光刻机，有以下三个原因1因为我们的技术有限为了阻止我们的技术发展，西方国家阻碍了一些技术进入中国因此，这一限制将影响中国在光刻机的发展2事实上，我们的许多组件的使用取决于国际市场，在这种情况。

有德媒称，中国在10年内或将实现自给自足，而阿斯麦CEO则表示中企最快3年内或许就可以攻克难关当然这些都只是外界的声音，我们还是应该脚踏实地，虽然光刻机研制任重而道远，我们也要坚信先把基础打好，登顶也只是时间。

光刻机下马的罪人

除了现代技术的结合，光刻机零部件的生产也是一个严重的问题，因为它们不是阿斯麦独立生产的，而是从世界不同国家进口的这就不难理解为什么阿斯麦敢于慷慨地说，即使就我们的图纸而言，中国也无法制造光刻机，因为仅凭我们自。

时间应该不会太久，加油自己，加油中国人目前我国能生产光刻机的企业有5家，最先进的是上海微电子装备有限公司，光刻机量产的芯片工艺是90纳米，目前正在向65纳米迈进，而国外最先进的是5纳米，正在向3纳米迈进，这中间。

另外，由于美国的缘故，ASML的EUV光刻机也不能自由出货，国内厂商订单了一台EUV光刻机，至今ASML都没有发货而国产的28纳米光刻机完全属于中国制造，不仅出货将不会受到限制，国内的所有厂商都能购买使用，而且光刻机是我们。

中国光刻机的发展被多方面因素所耽误首先，技术方面存在瓶颈光刻机需要高精度的制造和稳定性，这要求技术水平不断提升，而中国在这方面与国际先进水平仍有差距其次，知识产权问题也对光刻机的发展造成了制约光刻机涉。

中国光刻机下马原因

中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料，上海微电子将于2020年12月下线首。

如果中国以一国之力很快轻而易举的造出了光刻机5纳米2纳米，就会给人感觉特别强势，世界其它国家就会更害怕了，就会更快的形成围堵中国的外部环境，得给它们留下慢慢适应的时间，或者叫温水煮青蛙即使我们已经做出来。