我国九十纳米的光刻机，在这个领域水平的应当属于一流水平但是还远远比不上国外的水平，毕竟国外的光刻机能够制作十纳米以内的芯片，而这一年我国目前还是远远无法做到的对此我国也正在努力进行追赶，但是短期之内还暂时无法；在中国根本不可能实现基础技术的延续性根本达不到，何谈机械制品的精度和装配工艺 光刻机制造瓶颈在克刻的精度要求，所以要以要求定精度，主要是机械制造上要严要，首先是制造的母机精度再谈的上制造精度，再就是制造的人才，精度一高。

在各项政策中较为突出的是极大规模集成电路制造装备及成套工艺项目02专项，其以专项的形式组织了一批国内光刻机企业进行了一系列重点工艺和技术的攻关，有效促进了我国光刻机行业的发展技术发展技术仍在不断进步。

中国光刻机的最新进展

1、超级大国如它自己也做不到，我们怎么做得到这是赤裸裸的霸凌中国应该强力反击，不惜付出任何代价光刻机的牛逼之处在于这家企业的匠心精神，经历了几代人的千锤百炼和技术上不断的沉淀，一步一步的形成今天的核心。

2、瓶颈反而在光刻部分，也就是说光刻机造出来，和光刻机好用完全是两回事所以，光刻制造的真正瓶颈，不是制造这台机器，而是如何嵌入成熟的半导体制造体系b站上看过很多大佬谈国家产业规划，意见基本完全一致14五期间解决。

3、1现在国内的光刻机能达到多少纳米的技术官网显示，目前最先进的光刻机是600系列，光刻机中最高的生产工艺可以达到90nm然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的。

中国的光刻机进展到什么程度了

目前全球能够制造和维护需要高度的光学和电子工业基础技术的厂家，全世界只有少数厂家掌握光刻机技术例如ASML尼康佳能欧泰克上海微电子装备SUSSABM，Inc等因此，光刻机的价格昂贵，通常在3千万到5亿美元中国。

1965年，我国的第1台光刻机是从外国进口的，直到现在为止全国只有两个国家拥有光刻机的高科技手段特别是荷兰的光刻机技术在全球是遥遥领先的，但由于荷兰受到美国的影响，并不愿意把光刻机的相关技术和设备出口给中国。