另外，光刻机中的光源也是一项难以攻克的技术难关，对于深紫外光DUV刻，使用的光源波长是193nm，这是光刻机中的一个技术分水岭，芯片发展曾经在193纳米光源停滞了十多年的时间，后来浸没技术缩短波长原理是在表面镀上。

而且即将推出3纳米工艺制作的芯片但是据相关信息透露，预计我国第一台28纳米工艺的国产沉浸式光刻机即将交付尽管国产光刻机仍与ASML的EUV光刻机还有很大的距离，虽然起步晚，但是国人的不断努力，仍会弯道超车相关介绍。

290亿美元2021年中国向ASML公司进口了81台DUV光刻机和生产的新区，进口采购了290亿美元，所占市场份额仅为16%，光刻机是芯片制造的核心设备，也是研发难度最大的半导体设备。

世界有数的光刻机企业中，我们除了知道ASML之外，还有尼康，佳能，欧泰克，上海微电子装备等等，这里尼康和佳能就是日本企业 确实尼康在很长一段时间内可以说是光刻机的霸主，但是因为ASML和台积电合作浸润式DUV的光刻机，将尼康佳能给超越。

ASML卖了DUV光刻机给中芯国际，已经卖了EUV光刻机，应该去年底交货去年初不知道为什么厂房大火，阻碍了交货日期，当今年交货时，因为出口批文过期，再申请后，荷兰政府被川普压迫，不批准出口而已中芯国际可以用DUV光刻机做7nm芯片，麻烦一。

就算是没有EUV光刻机，能卖到ASML公司生产的DUV光刻机也是不错的，这一光刻机可以生产14nm工艺，乃至28nm工艺的芯片，而这些芯片才是目前芯片市场上最紧缺的产品，有了光刻机以后，中芯国际就能扩大自己的产能了值得一。

ASML在45nm以下制程的高端光刻机市场中占有85%的份额在EUV极紫外光刻机领域则处于绝对垄断地位，市场占有率100%另据公开资料显示，目前EUV设备正受国际协议限制形成了出口管制，而在芯片制造厂中运用广泛的DUV设备。

荷兰ASML公司的极紫外光刻机EUV是现在全球最顶尖的光刻机设备，相较于DUV，它把193nm的短波紫外线替换成了135nm的极紫外线，能够把光刻技术扩展到32nm以下的特征尺寸EUV光刻机的光源来自于美国的Cymer，这个135。