1 什么是EUV光刻机EUVExtreme Ultraviolet光刻机是一种用于制造高端芯片的先进设备与传统光刻机不同的是，EUV光刻机使用的是极紫外光源，具有更短的波长和更高的分辨率，能够制造尺寸更小的芯片，如5nm芯片2。

中芯国际最好的光刻机是28纳米光刻机中芯国际是中国领先的半导体制造公司之一，其光刻机技术处于行业领先地位28纳米光刻机是中芯国际目前最先进的光刻机，可以制造出高质量的28纳米芯片28纳米光刻机的精度非常高。

制作芯片的机器主要包括以下几种光刻机光刻机是制作芯片最关键的设备之一，它利用光刻技术将芯片设计图案转移到硅片上离子注入机离子注入机是将掺杂原子注入硅片的设备，通过掺杂可以改变硅片的电性质，实现电路的控制。

手机芯片需要使用10nm的光刻机原因是，手机芯片的制造需要使用光刻技术来进行微细加工，而随着科技的不断发展，光刻机的分辨率不断提高，10nm的光刻机可以制造出更加微小的芯片结构，使得手机芯片的性能可以更好地进行提升。

1980年代的光刻机主要用于生产计算机芯片，包括微处理器内存芯片IO芯片逻辑芯片以及其他电子元器件它们通过光刻技术来设计复杂的集成电路，使电子设备具有更强大的功能，提高了其处理能力和存储能力，节约了空间和成本。

采用技术不同刻印方式不同等采用技术不同激光直写光刻机采用激光技术刻印，而芯片光刻机采用金属仪器刻印刻印方式不同激光直写光刻机是采用激光刻印方式直接刻印，而芯片光刻机是先刻印到芯片上后再转印到需要刻印。

相信大多数人都清楚，光刻机的用途是刻字光刻机是生产手机芯片的重要机器之一目前，只有少数国家可以生产光刻机，只有荷兰ASML公司可以生产高精度光刻机，而且荷兰ASML公司垄断了全球高精度光刻机80%以上的市场份额目前。

现在世界上的芯片仍然是硅基芯片经过近半个世纪的发展，芯片的关键尺寸逐渐缩小，从最初的电子管到晶体管，再到集成电路的发明目前，我们仅有的技术是光刻技术因此，如果没有光刻机，芯片就无法正常制造，目前也没有。

中国造不出芯片的原因如下1没有高端光刻机光刻机是造芯片的核心设备，芯片的性能是由光刻机的精度决定的2人才缺失国家有资金支持出国留学，但不是所有出国留学的均学有所成，有的加入了外国国籍3国外芯片技术。

出这样的一家企业，光刻机属于整个工业体现的完美体现，我们国家投入那么大的人力资源财力和物力，现在都没有办法突破十四纳米的光刻机，比亚迪再厉害也做不到，所以根本不可能的事情，比亚迪自己研发芯片这个可以去做，但是说自己研制光刻机不。