90纳米封装光刻机在国内市场已占据不小的份额，这是国产光刻机取得的进步然而在代表着光刻机技术水平的晶圆制造光刻机方面，上海微装可生产加工90nm工艺制程的光刻机，这是国产光刻机最高水平，而ASML如今已量产7nm；根据媒体报道，在2018年11月29日，国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收该光刻机由中国科学院光电技术研究所研制，光刻分辨力达到22纳米请注意该报道的标题“重大突破，国产22纳米光刻机通过验收”；全世界只有中国日本荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度目前，荷兰ASML一家公司。

这里所说的资金不够，并不是所说的投资不够，而是光刻机芯片这一行业的利润不够因为我国目前市场上的芯片都是由外国制造的，国产芯片在我国市场根本没有任何竞争空间这也导致了很多科技公司不愿意往芯片这个方面发展，这；然而，与荷兰ASML公司拥有的EUV掩模对准器相比，它可以通过高达5纳米的工艺制造而且3nm工艺制作的芯片即将上市不过根据相关信息，预计中国首款采用28nm工艺的国产浸没式光刻机即将交付虽然国产光刻机和ASML的EUV光刻机差距；28纳米根据中国人民网显示，2023年中国已经成功研发出国产第一台28纳米nm光刻机，该光刻机预计在年底能够交付使用；75台国产光刻机产品应用主要其中在半导体后道封装LED面板等领域，2020年中国光刻机产量为62台，2021年国内产量为75台光刻机又名掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备，它采用类似照片冲印的。

光刻机国产排名第一的是上海微电子目前全球只有四家能够制造光刻机的公司，分别是荷兰阿斯麦尔日本尼康和佳能中国上海微电子这里说的光刻机指的是euvduv浸润式光刻机所以说，国内仅有一家能够制造光刻机的公司；国内光刻机技术日渐成熟，并且在半导体光电子等领域得到了广泛应用在国内，ASML等工厂先进的外国光刻机还未被完全引进，因此最精密的国产光刻机就显得非常重要目前，最精密的国产光刻机可以达到8纳米，比上一代光刻机。