极紫光刻机EUV，135纳米波长光源，深紫光刻机DUV，193纳米波长光源；光刻机的主要性能指标有1支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等2分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式3光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制4对准精度是在多层曝光时层；光刻机是一种用于制造集成电路的工具光刻机是一种工具，可以将设计的图案精确地移植到硅片上，以形成电路图案光刻机的工作原理通过使用一种特殊的光源如氙气激光，将图案投射到硅片上，激光照射硅片时，激光能够照射到硅片上的特定区域，使硅片表面发生变化，从而形成电路图案盾构机，简称盾构。

光刻机的分类 根据用途的不同，可以分为用于生产芯片用于封装和用于LED制造等根据光源的不同，可分为紫外光源UV深紫外光源DUV极紫外光源EUV，光源的波长影响光刻机的工艺极紫外光刻机，选取了新的方案来进一步提供更短波长的光源根据操作方式的不同，可分为接触式光刻直写；本发明通过利用高功率2μm波段全固态激光器高平均功率高插墙效率小装置体积等特性，替代目前作为驱动光源的CO2激光器，获得更高的平均功率输出，提升激发EUV辐射的功率，解决EUV光刻机芯片产量提升的问题5月26日，上海市科学技术奖励大会在沪召开会上颁发了2022年度各项科技奖励，上海光机所四项；所以与光源光刻系统光刻胶和工艺等各方面的限制3 对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度4 曝光方式分为接触接近式投影式和直写式5 曝光光源波长分为紫外深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等以上就是给各位带来的关于光刻机性能指标是什么的全部内容了。

光刻机相当于画匠，刻蚀机是雕工前者投影在硅片上一张精细的电路图就像照相机让胶卷感光，后者按这张图去刻线就像刻印章一样，腐蚀和去除不需要的部分2结构 光刻机的最主要的核心技术就是光源和光路，其光源和光路的主要组成部分有四个，光源曝光检测和其他高精密机械组成对比之下；荷兰光刻机如下荷兰有一家公司ASML，它是全球做光刻机最好的国家，这个根本不用质疑，这家公司拥有强大的科研实力，碾压了美国英国等等貌似芯片软件实力极强的国家而且这家公司非常精准的抓住了光刻机技术发展的转折点，旗下的利用光源进行的浸没式系统成功打破所有国家对于光刻机的幻想，所以荷兰才能；光源波长不同曝光分辨率不同1深紫外光刻机使用的是准分子激光，氟化氢激光，其波长范围在200300纳米之间而极紫外光刻机则使用的是极紫外光源，其波长范围在10121纳米之间2深紫外光刻机和极紫外光刻机的曝光分辨率也有所不同由于极紫外光的波长更短，因此其曝光分辨率更高，可以制造。