极紫光刻机EUV，135纳米波长光源，深紫光刻机DUV，193纳米波长光源；光刻机的主要性能指标有1支持基片的尺寸范围，分辨率对准精度曝光方式光源波长光强均匀性生产效率等...

1、光刻机的工作原理是通过一系列的光源能量形状控制手段，将光束透射过画着线路图的掩模，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小后映射到硅片上然后使用化学方法显影，得到刻...