1、我国在21世纪的前二十年里已经接连突破了两道封锁线，形成了前所未有的自主攻势，毫无疑问，我国在什么时候突破第三道封锁线，决定权就在我们国内光刻机企业的手里国外在什么时候解除第三道封锁线，主动权也在我们国内光刻机企业的手里，而到了突破或者解除的那个时候，我国光刻机大概率只会是达到。

2、但是限制华为的芯片供货，禁止台积电为华为代工，还有一只阻止中芯国际的EUV光刻机到货，主要指针对现在主流的7nm5nm工艺制程的高端芯片在光刻机领域我们确实是落后美国太多了，短时间想跟上谈何容易，是需要技术的积累的，而我们想要在这段路上超越并不现实，而我国的技术人员也是在研究其他的芯片。

3、而且有了一定的科研成果，但是目前我国高端芯片的制造却主要依赖荷兰进口的光刻机我国光刻机在不断发展但是与国际三巨头尼康佳能中高端光刻机市场已基本没落ASML中高端市场近乎垄断比差距很大光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种有用于生产芯片的光刻机有用于封装的。

4、3ASML的成功是因为其技术的局限性，更重要的是，它把一些企业当成了自己的股东，比如三星台积电，英特尔等等所以在这种情况下，会发现光刻机在中国的发展并不是特别突出正是因为光刻机的限制，中国在芯片领域的代工确实受到了很大的影响，华为不得不受到限制因此，只有不断自主研究和开发属于我。

5、在现如今的智能化的时期，芯片是一切高 科技 公司而言都是最关键的存活定心针，而如今，如果没有高档芯片作为支撑点，也就代表着将来在尖端 科技 领域不太可能获得多少成绩可是由于我国欠缺可以制造芯片的顶尖的光刻机，也造成了我们在芯片生产制造层面，并没有那么成功当美国的芯片限令起效后，几乎。

6、摘要光刻机被誉为“现代光学工业之花”，号称比研制原子弹还困难全球只有3个国家能造在全球高端光刻机市场，荷兰达到全球领先水平，除了荷兰，日本中国也可以制造光刻机但我国一直被西方国家牢牢“卡脖子”，至今都没能突破尖端技术那么，研制光刻机的难度在哪里一光刻机哪个国家能造光。

7、不是只能停留在跟随仿制光刻机的层面，而是我们连跟随仿制可能都做不到虽然这话听起来有点扫兴，但是这就是我国的真实现状要想生产出高端光刻机，需要很多领域的顶级供应商相互配合，下面我就简单列举下生产高端光刻机需要的三项技术，也好让大家知道制造自己的光刻机到底有多难超高精度的数控机床。

8、因为我国在光刻机这一领域上的起步比较晚，制造高端光刻机的难度更大所以目前我国最先进的光刻机也仅仅还处于7nm这一阶段，和全球顶级的光刻机相比较还有很大的差距光刻机别名为曝光机，光刻机是用来制造芯片的一款机器因此，光刻机对于制造芯片有着非常重要的作用，麒麟芯片AMD芯片等等都是。

9、路要一步一步走，中国16个重大专项中的02专项提出光刻机到2020年出22纳米的目前主流的是45纳米，而32纳米和28纳米的都需要深紫外光刻机上面改进升级用于光刻机的固态深紫外光源也在研发，我国的光刻机研发是并行研发的，22纳米光刻机用到的技术也在研发，用在45纳米的升级上面在交期方面。