1ASML阿斯麦ASML是全球最大的光刻机制造商，总部位于荷兰他们的光刻机产品在芯片制造中占据着主导地位，为全球各大半导体制造商提供先进的光刻技术2Nikon尼康Nikon是日本的一家知名光刻机制造商，他们。

5nm激光光刻技术，预示着我们即将能取代ASML，但是5nm激光光刻技术还未安全成熟，因此还是要用ASML技术。

中国有自己的光刻机，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备研制项目“超分辨光刻装备研制”通过验收，这是世界上首台用紫外光实现了22nm分辨率的超分辨光刻装备，为纳米光学加工提供了全新的解决途径在光电所的。

EUV已被确定为先进工艺芯片光刻机的发展方向DUV已经能满足绝大多数需求覆盖7nm及以上制程需求DUV和EUV最大的区别在光源方案duv的光源为准分子激光，光源的波长能达到193纳米然而，euv激光激发等离子来发射EUV光子，光。